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Copper Oxide Films Grown by Atomic Layer Deposition from Bis(tri-n-butylphosphane)copper(I)acetylacetonate on Ta, TaN, Ru, and SiO2: Atomlagenabscheidung von Kupferoxidschichten au...

Personen und Körperschaften: Waechtler, Thomas, Oswald, Steffen, Roth, Nina, Jakob, Alexander, Lang, Heinrich, Ecke, Ramona, Schulz, Stefan E., Gessner, Thomas, Moskvinova, Anastasia, Schulze, Steffen, Hietschold, Michael
Titel: Copper Oxide Films Grown by Atomic Layer Deposition from Bis(tri-n-butylphosphane)copper(I)acetylacetonate on Ta, TaN, Ru, and SiO2: Atomlagenabscheidung von Kupferoxidschichten auf Ta, TaN, Ru und SiO2 ausgehend von Bis(tri-n-butylphosphan)kupfer(I)acetylacetonat
Format: E-Artikel
veröffentlicht:
Chemnitz The Electrochemical Society, Inc. (ECS)
Online-Ausg.. 2009
Gesamtaufnahme: ; Journal of The Electrochemical Society, Vol. 156, No. 6, pp. H453-H459 (2009); Digital Object Identifier (DOI): 10.1149/1.3110842
Schlagwörter: