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Copper Oxide Films Grown by Atomic Layer Deposition from Bis(tri-n-butylphosphane)copper(I)acetylacetonate on Ta, TaN, Ru, and SiO2: Atomlagenabscheidung von Kupferoxidschichten au...
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Titel: | Copper Oxide Films Grown by Atomic Layer Deposition from Bis(tri-n-butylphosphane)copper(I)acetylacetonate on Ta, TaN, Ru, and SiO2: Atomlagenabscheidung von Kupferoxidschichten auf Ta, TaN, Ru und SiO2 ausgehend von Bis(tri-n-butylphosphan)kupfer(I)acetylacetonat |
Format: | E-Artikel |
veröffentlicht: |
Chemnitz
The Electrochemical Society, Inc. (ECS)
Online-Ausg.. 2009 |
Gesamtaufnahme: | ; Journal of The Electrochemical Society, Vol. 156, No. 6, pp. H453-H459 (2009); Digital Object Identifier (DOI): 10.1149/1.3110842 |
Schlagwörter: |