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Detailed Study of Copper Oxide ALD on SiO2, TaN, and Ru
Personen und Körperschaften: | , , , , , , , , |
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Titel: | Detailed Study of Copper Oxide ALD on SiO2, TaN, and Ru |
Format: | E-Book-Kapitel |
veröffentlicht: |
Chemnitz
American Vacuum Society (AVS)
Online-Ausg.. 2009 |
Gesamtaufnahme: | ; AVS 9th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2009), Monterey, CA (USA), July 19-22, 2009 |
Schlagwörter: |