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Wetting Optimized Solutions for Plasma Etch Residue Removal for Application in Interconnect Systems of Integrated Circuits: Benetzungsoptimierte Reinigungslösungen für die Entfernu...
Personen und Körperschaften: | , , , |
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Titel: | Wetting Optimized Solutions for Plasma Etch Residue Removal for Application in Interconnect Systems of Integrated Circuits: Benetzungsoptimierte Reinigungslösungen für die Entfernung von Plasmaätzresiduen für die Anwendung im Verdrahtungssystem integrierter Schaltungen |
Hochschulschrift: | Dissertation, 2011 |
Format: | E-Book Hochschulschrift |
veröffentlicht: |
Universitätsverlag der Technischen Universität Chemnitz
Online-Ausg.. 2013 |
Schlagwörter: |