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Organosilane Downstream Plasma On Ultra Low-k Dielectrics: Comparing Repair With Post Etch Treatment: Organosilane Downstream Plasma On Ultra Low-k Dielectrics:Comparing Repair Wit...

Personen und Körperschaften: Calvo, Jesús, Steinke, Philipp, Wislicenus, Marcus, Gerlich, Lukas, Seidel, Robert, Clauss, Ellen, Uhlig, Benjamin
Titel: Organosilane Downstream Plasma On Ultra Low-k Dielectrics: Comparing Repair With Post Etch Treatment: Organosilane Downstream Plasma On Ultra Low-k Dielectrics:Comparing Repair With Post Etch Treatment
Format: E-Book
veröffentlicht:
Chemnitz Technische Universität Chemnitz
Online-Ausg.. 2016
Gesamtaufnahme: ; AMC 2015 – Advanced Metallization Conference
Schlagwörter: